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264 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1259
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262 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1245
261 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1242
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259 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1235
258 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1230
257 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1221
256 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1207
255 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1206
254 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1201
253 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1187
252 자기 거울에 관하여 1187
251 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1182
250 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1177
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248 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1160
247 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1157
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