Plasma in general Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요?
2018.12.26 15:02
PLASMA SPACING은 고정한채 Frequency만 조절하여 플라즈마 세로 영역을 확장할 수 있을까요?
Frequecny가 low일수록 이온의 움직일 수 있는 시간이 늘어 이온이 아래위로 더 움직일 수 있을거 같은데
이를 증명할 수 있는 방법이나, 이 사실에 대해 아시는 분 답변 부탁드립니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [218] | 75409 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19148 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56477 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67540 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89320 |
| 744 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 143351 |
| 743 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134328 |
| 742 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 94463 |
| 741 | Plasma source type | 78752 |
| 740 | Silent Discharge | 64512 |
| 739 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 53990 |
| 738 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47314 |
| 737 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43562 |
| 736 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 40896 |
| 735 | 대기압 플라즈마 | 40360 |
| 734 | RF frequency와 RF power 구분 | 38923 |
| 733 | Ground에 대하여 | 38753 |
| 732 | Self Bias | 36279 |
| 731 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35403 |
| 730 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34783 |
| 729 | PEALD관련 질문 [1] | 32061 |
게시판의 plasma in general 항목에서 그 이유를 찾을 수 있지 않을까 합니다. 확인해 보세요. 참고로, plasma heating은 electron을 표면 반응은 ion을 활용합니다. 또한 각각의 열운동 특성이 다름으로 thermal velocity가 다르며, 이에 따라서 rf 시간동안 반응할 수 있는 거리를 추론해 볼 수가 있고, 이 기반으로 전극 gap 사이에서 플라즈마의 입자들이 얼마나 움직일 수 있는가를 따져 볼 수가 있겠습니다.