ESC ESC Cooling gas 관련
2019.02.21 19:22
Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다
비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [112] | 4887 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 16225 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 51250 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 63745 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] | 83512 |
| 675 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134076 |
| 674 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 126108 |
| 673 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 92213 |
| 672 | Plasma source type | 76802 |
| 671 | Silent Discharge | 64173 |
| 670 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 52371 |
| 669 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 46385 |
| 668 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43079 |
| 667 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 40312 |
| 666 | Ground에 대하여 | 37770 |
| 665 | RF frequency와 RF power 구분 | 36400 |
| 664 | Self Bias | 35955 |
| 663 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 34563 |
| 662 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34500 |
| 661 | 대기압 플라즈마 | 34297 |
| 660 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31016 |
| 659 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 30635 |
질소 화합물이 만들어 질 수가 있으니, 삼가하시는 것이 좋을 것 같고, 최근 추세는 ESC 온도를 정밀하게 제어하는 방법에 대해서 관심들이 많이 있어 보이니 참고하시기 바랍니다.