ESC ESC Cooling gas 관련
2019.02.21 19:22
Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다
비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 72 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48822 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 54113 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 62553 |
| 587 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 73125 |
| 586 | Plasma source type | 52963 |
| 585 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 45732 |
| 584 | 플라즈마내에서의 아킹 | 42795 |
| 583 | Silent Discharge | 41168 |
| 582 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 40465 |
| 581 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 38187 |
| 580 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 34662 |
| 579 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 33849 |
| 578 | Self Bias | 30138 |
| 577 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 29492 |
| 576 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 29490 |
| 575 | DC Bias Vs Self bias [5] | 29382 |
| 574 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 28588 |
| 573 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
| 28497 |
| 572 | matching box에 관한 질문 [1] | 28328 |
| 571 | 플라즈마 밀도 | 28248 |
질소 화합물이 만들어 질 수가 있으니, 삼가하시는 것이 좋을 것 같고, 최근 추세는 ESC 온도를 정밀하게 제어하는 방법에 대해서 관심들이 많이 있어 보이니 참고하시기 바랍니다.