Monitoring Method Wafer particle 성분 분석
2019.03.26 06:46
안녕하세요.
반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다
다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.
혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?
향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.
혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76539 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91695 |
779 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144258 |
778 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134434 |
777 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95472 |
776 | Plasma source type | 79618 |
775 | Silent Discharge | 64555 |
774 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54778 |
773 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47762 |
772 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43678 |
771 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41192 |
770 | 대기압 플라즈마 | 40675 |
769 | Ground에 대하여 | 39313 |
768 | RF frequency와 RF power 구분 | 39046 |
767 | Self Bias | 36376 |
766 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35823 |
765 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34920 |
764 | PEALD관련 질문 [1] | 32597 |
세정쪽입니다. 서울대 화공과 김재정교수님, 혹은 한양대 재료화학공학과 박진구교수님께서 답변을 주실 것 같습니다.