Plasma Source Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문)
2019.06.26 10:25
안녕하십니까.. 현재 반도체업계 종사중이며 Plasma 관련 일을 하고 있습니다.
다름이 아니오라 궁금한 점이 있어 이렇게 글을 올립니다.
Plasma에 의한 Gas 분해 및 치환 시 하기와 같은 예로
Zr[N(CH3)(C2H5)]4 ---->Zr + N + C + H (O2 Add)
-- Zr + O2 --->ZrO2
-- C + O2 -->CO2
-- N + N --> N2
-- 4H + O2 -->2H2O
반응하여 생성된다고 가정하였을 때
반도체 공정중에서 Plasma를 발생시켜 Source Gas 및 Add Gas를 반응시켰을 시
1. 생성되는 Powder 종류
2. 생성되는 Gas 종류
3. 항목 1~2에서 우선순위로 생성되는 Gas 및 Powder 종류
위 내용에 관련하여 조언 및 교육을 받고자 하오니 답변 부탁드리겠습니다.
이상입니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75778 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19464 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56676 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68054 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90353 |
754 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 143660 |
753 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134367 |
752 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 94848 |
751 | Plasma source type | 79115 |
750 | Silent Discharge | 64526 |
749 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54301 |
748 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47509 |
747 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43618 |
746 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
![]() | 41022 |
745 | 대기압 플라즈마 | 40459 |
744 | Ground에 대하여 | 38989 |
743 | RF frequency와 RF power 구분 | 38977 |
742 | Self Bias | 36320 |
741 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35546 |
740 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34825 |
739 | PEALD관련 질문 [1] | 32181 |
powder 문제는 성균관대학교 기계공학과 김태성교수님 혹은 교통대학교 김성룡 교수님께 문의드려 보시면 도움을 받을 수 있을 것 같습니다.