Others N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점
2022.05.12 00:29
안녕하세요. 반도체회사에서 PECVD 장비를 하고있는 윤태화입니다.
GAS 종류에 따른 Plamsa 진행시 차이점이 있는지 궁금합니다.
1. N2 Gas 로 Plasma 진행 시 장단점
2. N2O Gas 로 Plasma 진행 시 장단점
3. N2 / N2O 두 Gas의 Plasma 차이점
4. N2 및 N2O GAS 사용으로 Plasma 4~5분 노출 시 챔버 내부 변색 가능성? 한두달 뒤 변색이 될 가능성..
위 4개 질문드립니다.
감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75783 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19468 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56676 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68062 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90355 |
| 754 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 143663 |
| 753 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134367 |
| 752 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 94850 |
| 751 | Plasma source type | 79116 |
| 750 | Silent Discharge | 64526 |
| 749 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54309 |
| 748 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47509 |
| 747 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43618 |
| 746 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 41024 |
| 745 | 대기압 플라즈마 | 40460 |
| 744 | Ground에 대하여 | 38991 |
| 743 | RF frequency와 RF power 구분 | 38977 |
| 742 | Self Bias | 36320 |
| 741 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35548 |
| 740 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34825 |
| 739 | PEALD관련 질문 [1] | 32181 |
저희는 질소 및 질화막 공정에 익숙하지 않아 답변이 궁색합니다.
관련해서 최근 N2 관련 플라즈마를 깊이 연구하고 있는 그룹이 있어 소개해 드립니다. 아마도 연락을 취하시면 도움을 받을 수 있을 것 같습니다.
한국핵융합에너지연구원 플라즈마장비지능화연구단 (Plasma E. I. Convergence Research Center): http://www.kfe.re.kr