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427 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5271
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423 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4577
422 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4188
421 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4090
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419 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3972
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