30 kW급 공동형 (양 극 모두 구리) 플라즈마 토치를 운전하는데, 음극에서 구리 소모가 상당히 심하네요. 원래 음압에서 운전하도록 설계된 토치인데, 저희는 약간의 양압 상태에서 운전하고 있습니다. 0.2 bar정도...

플라즈마 소스는 알곤가스를 사용합니다. 냉각은 13도로 들어가서 15도 정도로 나오니... 잘 되는 것 같은데.... 구리가 많이 나오네요.

이런 경우는 어떤 대처가 필요할 까요? 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102201
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24572
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61230
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73312
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105536
513 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6671
512 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구] [1] 6602
» 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [공동형 토치의 운전법 및 방전특성이해] [2] 6576
510 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문 드립니다! [플라즈마 발생 방식과 성질] [1] 6570
509 자료 요청드립니다. [1] 6526
508 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 6505
507 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [VI probe] [3] 6471
506 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6439
505 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [Electron Temperature와 Excitation Temperature] [1] 6253
504 RF Vpp관련하여 문의드립니다. [Self bias와 플라즈마 쉬스] [1] 6242
503 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [반응성 기체 생성] [1] 6228
502 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절] [1] 6209
501 RF calibration에 대해 질문드립니다. 6159
500 DRAM과 NAND 에칭 공정의 차이 ["플라즈마 식각 기술"] [1] 5919
499 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5749
498 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [Child-Langmuir sheath 및 Debye length] [1] 5689
497 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건] [3] 5679
496 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher] [2] 5509
495 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath] [1] 5440
494 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 5234

Boards


XE Login