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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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398 |
Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.
[2] | 3234 |
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RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.
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396 |
Bias 관련 질문 드립니다.
[1] | 3210 |
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395 |
PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다.
[1] | 3192 |
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394 |
Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다.
[1] | 3184 |
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393 |
아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서
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RIE에서 O2역할이 궁금합니다
[4] | 3120 |
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391 |
dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 3107 |
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390 |
plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다.
[2] | 3078 |
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389 |
M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다.
[1] | 3064 |
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388 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 2968 |
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387 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 2924 |
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386 |
electron energy distribution에 대해서 질문드립니다.
[2] | 2917 |
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385 |
RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다.
[2] | 2847 |
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384 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 2836 |
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383 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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382 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 2764 |
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381 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
[2] | 2763 |
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380 |
HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의
[1] | 2757 |
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379 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2754 |
