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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20149 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57149 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 3481 |
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코로나 방전의 속도에 관하여...
[1] | 3441 |
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Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다.
[1] | 3433 |
424 |
Bias 관련 질문 드립니다.
[1] | 3401 |
423 |
RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.
[1] | 3398 |
422 |
plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다.
[2] | 3363 |
421 |
PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다.
[1] | 3321 |
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Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.
[2] | 3318 |
419 |
RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다.
[2] | 3279 |
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PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 3259 |
417 |
electron energy distribution에 대해서 질문드립니다.
[2] | 3190 |
416 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
[2] | 3174 |
415 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 3170 |
414 |
아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서
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413 |
M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다.
[1] | 3158 |
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CVD 공정에서의 self bias
[1] | 3087 |
411 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 3051 |
410 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 2961 |
409 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2958 |
408 |
RF matcher와 particle 관계
[2] | 2902 |