Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:1982

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76728
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20190
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
47 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2873
46 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2742
45 PR wafer seasoning [1] 2701
44 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2633
43 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2453
42 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2325
41 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2316
40 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2261
39 etching에 관한 질문입니다. [1] 2260
38 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2051
37 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2010
» 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1982
35 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1934
34 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1793
33 터보펌프 에러관련 [1] 1756
32 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1409
31 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1376
30 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1309
29 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1243
28 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1183
쓰기
태그

Boards

XE Login