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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Plasma etcher particle 원인 [Particle issue와 wafer의 sheath]
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아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서
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Plasma 에칭 후 정전기 처리 [표면 전위 생성 및 방전]
[3] | 3184 |
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VI sensor를 활용한 진단 방법 [Monitoring과 target]
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HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Depostion Rate 감소 현상 문의 [전자의 에너지와 중성입자와의 충돌]
[1] | 3073 |
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PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [전극 표면 전위]
[1] | 3023 |
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HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching]
[1]  | 3000 |
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Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring]
[2] | 2993 |
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수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [MFC와 H2 gas retention]
[3] | 2917 |
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RIE에 관한 질문이 있습니다. [Sheath 이온 거동 및 bias power]
[1] | 2840 |
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플라즈마 압력에 대하여 [Glow discharge와 light]
[1] | 2814 |
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[RIE] reactice, non-reactice ion의 역할 [Dissociation과 Ar plasma]
[1] | 2813 |
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PR wafer seasoning [Particle balance, seasoning]
[1] | 2799 |
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플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [대기압 플라즈마와 라디컬 생성]
[1] | 2782 |
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SI Wafer Broken [Chucking 구동 원리]
[2] | 2756 |
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RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath]
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질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포]
[1] | 2715 |
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안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스]
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플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간]
[2] | 2684 |
