질문 드리기 앞서 Self Bias, Sheath Potential, Vpp, Vdc, Plasma에 대해 본게시판 및 웹 검색으로 사전 공부한 이후, 제가 개념을 적절히 이해한 게 맞는지 질문드리는 것이 목적임을 알려드립니다.

 

많이 부족하여 기본적인 개념에서 혼동이 오는듯 합니다. 연구원분들께서 도움 주시길 간곡히 부탁드립니다. 문의드릴 내용은 다음의 3가지입니다.

 

1) CCP 설비에서 전극에 RF Power을 인가하면, 이온과 전자의 모빌리티 차이로 인해 이온과 전자가 다른 거동을 보이고 각각의 Flux가 Saturation 될 때 전극 표면에는 (-)전하가 쌓이고, 반대로 Bulk Plasma에는 (+)전하가 쌓인다고 이해했습니다.

따라서 이 때 Bulk Plasma의 (+)전위를 Vpp, 전극 표면의 (-)전위를 Vdc로 이해하는 것이 옳은지 궁금합니다. (아래 모식도처럼 된다고 이해했습니다)

pt3.png

 

 

2. CCP 설비에 RF Power를 인가할 때, 조절할 수 있는 Parameter로 Power[W]가 있습니다. Power=Voltage*Current로 나타낼 수 있는데, 이 때의 Voltage가 Vpp를 나타내는 것인지 궁금합니다. 만약 그렇다면 Current는 상기 모식도에서 어떻게 흐른다고 이해하면 되는지 궁금합니다.

 

 

3. 현재 현업에서 Vpp, Vdc, Matcher의 Load, Tune Capacitor Position 값이 이전 대비 변화할 경우, RF Generator, Matcher, Chamber 내 환경이 변화하였다고 판단합니다.

그 근거는 상기 Parameter는 결국 사용자가 조작하는 값이 아닌, Plasma 거동에 따라 변화하는 값이므로 상기 Parameter가 변화하였다고 Plasma 거동 변화에 대해 구체적으로 알기는 어렵다고 생각했습니다. 다만 RF Generator나 Matcher, Chamber 내 환경이 변하면 Plasma 거동이 바뀌므로 상기 Parameter가 변함에 따라 RF Generator, Matcher, Chamber 내 환경이 변했다고 추론만 할 수 있다고 봤습니다.

이러한 판단이 적절한지, 혹은 다른 접근방법이 있는지 궁금합니다.

 

 

긴 글 읽어주심에 감사드리며, 가능하시다면 답변 부탁드립니다. 유익한 홈페이지 운영해주심에 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
403 RF matcher와 particle 관계 [2] 2856
402 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2853
401 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2849
400 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2805
399 임피던스 매칭회로 [1] file 2789
398 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2719
397 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2716
396 PR wafer seasoning [1] 2694
395 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2674
394 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2667
393 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2662
392 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2617
391 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2602
390 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2571
389 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2565
388 질문있습니다. [1] 2544
387 Si Wafer Broken [2] 2472
386 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2469
385 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2451
384 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2423

Boards


XE Login