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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67552
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348 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2220
347 RF matcher와 particle 관계 [2] 2210
346 Wafer particle 성분 분석 [1] 2177
345 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2172
344 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2166
343 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2153
342 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2144
341 플라즈마볼 제작시 [1] file 2126
340 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2109
339 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2102
338 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2096
337 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2090
336 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2081
335 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2078
334 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2065
333 etching에 관한 질문입니다. [1] 2036
332 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2016
331 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2006
330 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2006
329 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1974
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