|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[235]
| 75772 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 19457 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56674 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68038 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 90329 |
|
318 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1804 |
|
317 |
RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다.
[1] | 1800 |
|
316 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
| 1798 |
|
315 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 1795 |
|
314 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문
[1] | 1772 |
|
313 |
RF generator 관련 문의드립니다
[3] | 1767 |
|
312 |
안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다!
[1] | 1760 |
|
311 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1755 |
|
310 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 1739 |
|
309 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
[1] | 1733 |
|
308 |
ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요??
[1] | 1731 |
|
307 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1723 |
|
306 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
[1] | 1717 |
|
305 |
CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도
[1] | 1715 |
|
304 |
압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다.
[1] | 1700 |
|
303 |
LF Power에의한 Ion Bombardment
[2] | 1684 |
|
302 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1670 |
|
301 |
wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상
[1] | 1647 |
|
300 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1642 |
|
299 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1633 |
