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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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터보펌프 에러관련
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278 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1591 |
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277 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
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276 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 1577 |
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275 |
플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다.
[1] | 1575 |
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274 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 1573 |
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273 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
[1] | 1573 |
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272 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1567 |
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안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다.
[1] | 1562 |
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270 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문
[1] | 1561 |
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다!
[1] | 1550 |
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RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
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267 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1544 |
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266 |
[RIE] reactive, non-reactive ion의 역할
[1] | 1532 |
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265 |
RF generator 관련 문의드립니다
[3] | 1525 |
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264 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
[1] | 1519 |
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wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상
[1] | 1470 |
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262 |
Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여
[1] | 1464 |
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261 |
압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문
[1] | 1444 |
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260 |
압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다.
[1] | 1426 |
