Others Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다.

2004.06.25 13:00

관리자 조회 수:17316 추천:250


===============================<질문>============================
반도체 제조 장비 중 Dry Etch 장치의 Chamber내의 상부 전극의 역할과
Si 전극, Cabon 전극, Grpite 전극..등의 성분과 특성, Plasma 형성차이등,,,
에 대해서 설명 좀 해주세요...


=============================<답변>==============================

반응기에서 전극의 역할 중 가장 중요한 역항을 플라즈마 발생과
관련있다고 할 수 있습니다. 이런 관점이라면 전극으로 유입되는
이온에 의한 이차전자 방출량이 플라즈마 생성 효율에 밀접한
영향을 주게 됨으로 전극의 재질은 유입되는 이온 종 과 에너지에
따라서 얼마나 이차전자가 방출되는가 를 살펴보아야 합니다.
또한 이차전자의 방출과 아울러 전극 표면의 입자도 스퍼터링 되어
나오게 되며 이는 종종 반응에 불필요한 불순물 역할을 하게 됩니다.
이런 화학적 특성 또한 전극을 선택하는 요인이 되기도 합니다.
참고가 되었기를 바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
303 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1485
302 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1478
301 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1475
300 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1471
299 plasma 형성 관계 [1] 1464
298 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1456
297 charge effect에 대해 [2] 1454
296 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1452
295 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1450
294 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1449
293 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1448
292 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1445
291 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1442
290 알고싶습니다 [1] 1438
289 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1437
288 Ar plasma power/time [1] 1429
287 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1426
286 MATCHER 발열 문제 [3] 1425
285 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1417
284 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1413

Boards


XE Login