CCP PECVD와 RIE의 경계에 대해

2021.06.21 15:35

피했습니다 조회 수:1426

안녕하세요. PECVD 방식을 사용하는 반도체 장비 회사에 다니는 엔지니어입니다.

항상 많이 배우고 있습니다 .감사합니다.

 

이번에 여쭙고 싶은것은 PECVD가 어느 순간 RIE가 되는지 입니다.

 

말씀드렸다시피 저희 회사는 PECVD를 쓰고있고, 이는 양 전극의 크기가 동일하며 두 전극의 간극(Gap)이 작아서 Wall의 영향을 받지 않기 때문에 DC bias는 영향이 거의 없고 따라서 Ion bombardment는 일어나지 않고 라디컬에 의한 화학 반응이 주를 이루게 된다고 알고 있습니다.

 

그렇다는 것은 두 전극의 크기가 동일하더라도 Gap을 늘리면 DC bias 효과를 낼 수 있다는 말인 것 같은데,

Gap을 어느정도로 확보해야 PECVD가 아닌 RIE로 부를 수 있는 걸까요?

현재는 10mm이하로 Gap을 사용하고 있습니다.

 

혹시 안된다면 이유는 무엇이고 전극의 크기가 같은 CCP 구조에서 Ion Bombardment를 일으킬 수 있는 방법이 있는지 궁금합니다.

 

감사합니다!!!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
283 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1411
282 ICP lower power 와 RF bias [1] 1404
281 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1399
280 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1395
279 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1391
278 플라즈마 관련 교육 [1] 1383
277 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1383
276 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1382
275 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1365
274 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1363
273 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1352
272 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1338
271 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1336
270 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1332
269 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1327
268 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1322
267 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1320
266 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1318
265 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1317
264 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1307

Boards


XE Login