Plasma Source 플라즈마 챔버
2021.03.18 20:01
안녕하십니까. 반도체 업체에 근무하고 있는 회사원입니다.
다름이 아니라 플라즈마에 챔버에 대해 질문이 있어 이렇게 글을 올립니다.
플라즈마 챔버 설계를 진행하려 합니다.
혹시....... Gas를 NF3를 사용하게 되면 스테인리스 챔버로 제작를 진행해도 괜찮을까요?
아니면 알루미늄 챔버로 제작을 해야 하나요?
위 두가지 챔버 제작의 경우 사용 불가한 이유가 있으면 알고 싶습니다.
너무 궁긍하여 글을 올립니다.
답변 부탁드립니다.
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76714 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20170 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92273 |
| 248 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1174 |
| 247 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1171 |
| 246 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1167 |
| 245 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1162 |
| 244 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1157 |
| 243 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1156 |
| 242 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
 | 1156 |
| 241 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1] | 1156 |
| 240 | 공정플라즈마 [1] | 1145 |
| 239 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1144 |
| 238 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1141 |
| 237 | 자기 거울에 관하여 | 1138 |
| 236 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1132 |
| 235 | wafer bias [1] | 1129 |
| 234 |
전자 온도 구하기
[1] | 1129 |
| 233 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1120 |
| 232 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1117 |
| 231 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1116 |
| 230 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1112 |
| 229 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1112 |
챔버 재료 선택에 앞서 처리 대상인 공정을 좀 더 면밀하게 조사사실 필요가 있어 보입니다. 일반적으로는 식각 공정에 metal을 직접 노출시키지는 않으며 Al 챔버를 사용하는 이유는 열팽창/수축에 유리하기 때문입니다. 따라서 Al2O3 coating을 한 내벽 shroud 을 장착합니다. 화학반응+내열조건에 대해서 반드시 고려하셔야 하고, 진공 seal 과 전기적 접촉도 중요하다고 알고 있습니다. 참고가 되었으면 합니다.