Others Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground]

2020.09.08 09:59

양심만세 조회 수:1146

안녕하세요. 장비회사에서 근무하는 양철훈 이라고 합니다.

궁금한 점이 있어 문의 드립니다.

 - DC sputter에서 스퍼터링 건에서 전원부 말고 Sheild나 housing는 전기적으로 ground가 좋은가요 floating 시키는 것이 좋은지요. DC에서는 상관없을 수도 있다는 생각이 들기도 합니다.

 - 동일 질문을 RF sputter의 경우에 하면 어떤 것이 더 좋은지요. RF에서는 charging 문제로 ground가 되어야만 할 것같다는 생각이 들기도 합니다.

어떤 것이 더 좋은지와 이 이유 답변 부탁드립니다.

감사합니다.

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82055
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21861
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58645
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70267
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95975
264 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1256
263 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1249
262 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1237
261 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1233
260 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1232
259 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1230
258 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1225
257 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1215
256 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1204
255 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1201
254 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1193
253 자기 거울에 관하여 1187
252 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1183
251 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1179
250 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1171
249 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1165
248 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1153
247 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1150
246 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1150
» Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1146
쓰기
태그

Boards

XE Login