안녕하세요. 플라즈마 연구실에서 식각 공정을 연구중인 대학원생입니다.

 

CF4 등 flourine 계열의 식각 가스를 사용하는 ICP 챔버를 이용해 관련 연구를 진행하고 있습니다.

연구 특성상 식각 가스를 비교적 장시간 사용 하고 있는데요, (ex) 실험 1 run당 continous하게 flourine plasma 1 시간 방전) 그러다보니 

실험을 진행함에 따라 안테나 쪽 dielectric, edge ring, chamber wall 등 이 점점 까맣게 바뀌고 있습니다.

 

결정적인 문제는 Ar이나 N2 plasma 방전 실험에서도 시료 표면에서 flourine 성분이 측정되어, 플라즈마 방전 시, 챔버 parts 표면에서 flourine이 나오는 것으로 추정하고 있습니다. 실험간 O2 plasma를 통해 carbon에 대한 conditioning은 진행하고 있지만 잔류 flourine도 제거하는 방법이 있을 지 여쭙고 싶습니다.

없다면 챔버 parts에 대한 보수를 진행하려고 하는데, liner를 사용하지 않는 챔버라 wall에 대한 보수는 현실적으로 어려운 상황워서 conditioning이 간절하네요..

 

H2 plasma를 사용하여 Si wafer의 flourine을 제거하는 논문을 일부 보긴 했습니다만, 챔버 내부 parts에 대해서도 유효한 방법일 지는 모르겠습니다.

 

답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [126] 5571
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16853
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51343
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64184
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84145
130 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 688
129 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 687
128 플라즈마 충격파 질문 [1] 674
127 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 670
126 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 665
125 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 665
124 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 652
123 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 645
122 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 645
» 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 638
120 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 636
119 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 634
118 전자 온도 구하기 [1] file 621
117 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 619
116 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 610
115 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 605
114 플라즈마 관련 교육 [1] 604
113 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 604
112 Collisional mean free path 문의... [1] 603
111 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 595

Boards


XE Login