질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:73936 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [54] 1166
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 887
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49369
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59407
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 73936
596 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25606
595 self bias (rf 전압 강하) 25413
594 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25254
593 충돌단면적에 관하여 [2] 25089
592 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24711
591 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24397
590 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24359
589 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24219
588 플라즈마가 불안정한대요.. 24173
587 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24171
586 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24149
585 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 23930
584 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23718
583 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23539
582 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23395
581 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23036
580 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22942
579 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 22864
578 플라즈마 쉬스 22743
577 Arcing 22706

Boards


XE Login