질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:84145 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [126] 5571
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16853
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51343
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64184
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84145
90 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 507
89 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 506
88 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 506
87 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 504
86 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 503
85 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 491
84 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 488
83 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 485
82 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 479
81 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 473
80 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 472
79 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 472
78 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 464
77 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 463
76 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 462
75 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 461
74 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 461
73 라디컬의 재결합 방지 [1] 460
72 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 459
71 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 456

Boards


XE Login