Sheath RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교

2023.01.11 20:48

aky123 조회 수:704

안녕하십니까 식각 관련 업무를 배우고 있는 엔지니어입니다. 알아본 바로는 LF일 때의 Sheath 영역이 HF일때보다 더 두껍다, 크다 라고 알고 있습니다. 이온의 이동성으로 생각해봤을 때, LF일 때가 HF일때 보다 이온이 반응할 수 있는 시간이 길고 이동이 더 가능하다. 즉, 이온의 밀집지역이 전극에서 더 멀어져있다, Sheath 영역이 더 두껍다 라고 이해했는데 이 생각이 맞는지 궁금합니다.

그리고 etch 진행시 LF power를 인가하면 Ion bombardment를 이용할 수 있다고 했는데, Sheath 영역이 더 두껍기 때문에 Ion을 끌어오기 더 용이해서라고 이해하면 되는지 궁금합니다. 답변주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75788
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19471
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56677
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68065
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90360
138 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 715
137 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 708
» RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 704
135 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 701
134 라디컬의 재결합 방지 [1] 697
133 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 693
132 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 690
131 교수님 질문이 있습니다. [1] 688
130 ICP 후 변색 질문 686
129 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 671
128 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 669
127 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 669
126 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 654
125 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 654
124 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 651
123 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 642
122 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 640
121 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 631
120 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 631
119 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 624
쓰기
태그

Boards

XE Login