Matcher RF 파워서플라이 매칭 문제
2022.07.21 23:00
안녕하세요? 현재 연구실에서 반응성 스퍼터링으로 TiO2 박막을 실험하고 있습니다.
연구실에서 사용하는 RF스퍼터 장비에는 오토매처가 있어 파워 인가 시 자동으로 임피던스 매칭을 수행합니다.
매처는 일반적인 장비로써 Load/Tune capacitor가 내장되어있습니다.
현재 RF 파워의 매칭 시간이 너무 긴 문제가 있습니다.
매칭이야 조건을 찾는 과정이니 시간이 걸릴 수 있겠지만, 매칭 시간만 1시간이 넘게 걸리고, 무엇보다 공정 조건이 같은데도 매칭이 이루어지는데 점점 오래 걸리고 있습니다.
반응 가스는 고순도 O2를 사용 중에 있으며, 순도는 용접용이어서 낮지 않습니다.
만일 매칭에 방해가 되는 요인이 있다면 어떤 요인이 있는 지 알고 싶습니다.
감사합니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] | 76710 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20163 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57162 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68684 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92246 |
| 148 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 708 |
| 147 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 707 |
| 146 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 703 |
| 145 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 698 |
| 144 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 696 |
| 143 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 695 |
| 142 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
| 141 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 685 |
| 140 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 679 |
| 139 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 677 |
| 138 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 674 |
| 137 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 669 |
| 136 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 664 |
| 135 | Polymer Temp Etch [1] | 659 |
| 134 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 657 |
| 133 |
Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다.
[1]  | 636 |
| 132 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 634 |
| 131 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 633 |
| 130 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 624 |
| 129 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 615 |