Matcher matching box에 관한 질문
2010.05.05 13:54
안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76538 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20075 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91694 |
144 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 692 |
143 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 689 |
142 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] | 686 |
141 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 677 |
140 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 676 |
139 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 671 |
138 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 669 |
137 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 668 |
136 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 661 |
135 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 650 |
134 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 650 |
133 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 649 |
132 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 648 |
131 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 638 |
130 | Polymer Temp Etch [1] | 634 |
129 | Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] | 633 |
128 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 628 |
127 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 617 |
126 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 614 |
125 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 601 |
- 논문: 이상원박사, " 전기적 특성을 고려한 ICP Source 설계",한국진공학회지 제18권 제3호 2009.5, pp. 176~185(10pages) 를 참고하세요.