Plasma in general 간단한 질문 몇개드립니다.

2020.01.29 20:33

플라 조회 수:431

안녕하세요. 플라즈마 장비를 다루면서 당연시 생각했던건데 이유를 생각해보면 

막상 안떠오를때가 있습니다. 그래서 몇가지 질문드리려고요.

1.같은 메이커 같은 모델의  장비를 쓸때에도 depo rate, etch rate가 제각기 다른데

이런이유를 어떻게 설명해야될까요..

2.하루종일 장비를 안쓰면 etch rate가 달라지는데 leak가 있어서 진공이 달라진것도

아닌데 왜 이런현상이 일어날까요? 이런 현상때문에 일부러 dummy wafer를 칠때가

있습니다.

3.chamber를 open한 직후와 많이 양산이 돌아간 상태에서 마찬가지로 rate가 달라지는데

이유가 있을까요?

4.chamber 벽 표면의 물질이 달라지면 플라즈마의 특성, 쉬스 이런것들이 달라지나요?

(Sputter 장비에서 shield의 부산물 포획특성을 위해 coating의 물질을 바꾸는 경우가 있어

문의드립니다)

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73034
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17632
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55517
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86031
66 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 470
65 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 468
64 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 462
63 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 456
62 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 451
61 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 448
60 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 446
59 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 442
58 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 435
57 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 432
» 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 431
55 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 419
54 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 416
53 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 415
52 ICP lower power 와 RF bias [1] 412
51 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 406
50 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 405
49 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 405
48 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 398
47 핵융합 질문 [1] 398
쓰기
태그

Boards

XE Login