Remote Plasma PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
2023.03.02 15:45
기초적인 질문인데요
PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요
Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.
Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76539 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91695 |
103 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 555 |
102 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 550 |
101 | 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] | 543 |
100 | Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] | 542 |
99 | Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. | 537 |
98 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 536 |
97 | Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] | 535 |
96 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 525 |
95 | 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] | 515 |
94 | self bias [1] | 514 |
93 | Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] | 508 |
92 | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] | 503 |
91 | 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] | 495 |
90 | 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] | 491 |
89 | 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... | 480 |
88 | (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] | 477 |
87 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 474 |
86 | 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] | 469 |
85 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 469 |
84 | Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. | 467 |
Ar 플라즈마를 공부해 보시면 좋을 것 같습니다. sputter 용으로 쓰이기도 하는데, 이는 mass 관점입니다. 다른 하나는 불활성 특성이고, 이는 표면 화학 반응에 자유롭다는 특징입니다. 다만 Ar* 의 에너지 전달은 고려해야 할 사항입니다. 마지막으로 플라즈마 관점에서는 Ar*+e (낮은 에너지 전자) --> Ar+ = 2e 로 metastable Ar 이 Ar+ 보다 많이 생성되고 이들은 낮은 에너지에서 이온화가 된어서, 플라즈마 생성과 유지를 수월하게 해 준다는 특성을 가지고 있습니다. 따라서 Ar은 플라즈마 생성, 유지 및 관리 차원에서 많이 사용하게 됩니다. 미세한 표면 화학 반응을 고려할 떄는 여기서 생성되는 metastable Ar*의 거동도 중요한 인자로 관리되고 있음도 참고하시기 바랍니다.
관련해서 메타 스테이블 (준안정상턔) 및 Ar 플라즈마의 광신호 발생 등에 대해 같이 공부해 보시기를 추천합니다.