ICP ICP lower power 와 RF bias

2023.01.18 19:04

eehcl12 조회 수:1406

안녕하세요 ICP 식각 장비를 이용해 실험을 진행하고 있는 학부생입니다. 현재 제가 사용하는 ICP 장비에 RF upper power, RF lower power, RF bias [Vpk] (v) 라는 파라미터가 존재합니다. 제가 알고 있는 바로는 Upper power는 Coil에 걸리는 파워로 플라즈마 생성 용도라고 생각을 했고, lower power는 이온의 에너지, 충격을 이용하기 위한 용도라고 생각을 했습니다. 하지만 RF bias는 무슨 용도로 사용이 되는 것인지 궁금해서 질문을 드립니다.

또한 절연체 층을 식각할 때는 RF bias를 가하고, 메탈 층을 식각할 때는 RF bias를 가하지 않는데 어떤 이유인지 궁금합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
103 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 556
102 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 552
101 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 543
100 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 542
99 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 538
98 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 536
97 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 536
96 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 526
95 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 515
94 self bias [1] 514
93 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 508
92 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 505
91 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 496
90 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 492
89 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 480
88 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 477
87 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 474
86 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 469
85 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 469
84 PECVD Uniformity [1] 468

Boards


XE Login