Plasma in general plasma 공정 중 색변화

2023.04.20 14:36

안서연 조회 수:358

안녕하세요. 저는 이번에 대학원 석사과정으로 들어오게 된 안서연입니다. 

 

현재 저는 RF마그네트론 스퍼터링을 이용해서 여러 파라미터를 가지고 공정을 진행하고 있습니다. 

Ti target에 Ar(50sccm)/O2(1sccm)을 넣고 파워만 조절(60,80,100,120)해서 막이 리니어하게 쌓이는지 보고있었습니다. 

 

60W의 경우 공정 중 plasma 색변화가 생겼는데 presputtering 단계에선 보라-핑크 빛을 띠고 있었습니다. (Ar/O2 모두 넣고 프리스퍼터링 진행) 헌데, 실제 공정에 들어가게되어 타겟의 셔터를 열고 난 후 플라즈마 색이 핑크 빛이 였으나, 약 10분정도 후 푸른색 플라즈마를 띄며 공정이 일어나게 되었습니다.

 

80W도 동일했으나 바뀌는 텀이 짧았고(약 2분 소요), 100,120W의 경우 셔터를 열면 바로 푸른색 플라즈마를 띄는 것을 볼 수 있었습니다.

 

공정 중 플라즈마가 압력과 파워의 영향을 받는다는 것은 이햐가 되지만, ( Analysis of plasma-induced morphological changes in sputtered thin films over compliant elastomer Debashis Maji1 and Soumen Das참조)

 

시간이 지남에 따라 플라즈마 색이 변화하는 이유가 궁금합니다. 

 

혹시 관련 매커니즘이나, 참고할만한 서적, 혹은 개념같은 것을 알 수 있을까요?

 

읽어주셔서 감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75425
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19161
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56479
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67556
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89363
48 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 356
47 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 354
46 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 350
45 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 338
44 plasma modeling 관련 질문 [1] 329
43 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 324
42 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 320
41 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 320
40 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 285
39 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 267
38 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 264
37 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 261
36 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 250
35 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 249
34 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 231
33 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 227
32 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 226
31 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 217
30 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 213
29 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 209

Boards


XE Login