안녕하십니까.

현재 반도체 회사에서 근무하고 있습니다.

ICP 공정 중 일어나는 Sapphire wafer (Al2O3) 변색 관련 질문 드립니다.

BCl3 gas를 이용한  ICP 진행 중 간간히 wafer가 옅은 노란색을 띄는 황변이 발생하고 있고.

황변 발생 wafer는 재열처리로 황변을 제거 하고 있습니다. (가끔 황변이 제거 안되는 경우도 있습니다.)

이와 관련.  

1. Oxygen의 숫자 부족

2. Al3 + vacancy 과도의 이유로 추정하고 있습니다.

Ingot 자체의 물성(?)이 원인이라고 파악하고 있는데.

혹시, ICP 진행 중 어떠한 화학반응에 의해 황변이 발생할 가능성이 있는지요.

어떠한 내용이라도 좋습니다.

위 황변 내용과 관련하여 다른 의견이나 지식을 얻고 싶습니다.

ICP 진행 중 wafer 황변 발생의 원인과 그에 따른 해결 방안 혹은 점검 내용이 있다면 알려주시길 부탁드립니다.