CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [219] | 75416 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19150 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56477 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67546 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89327 |
| 628 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20424 |
| 627 | 플라즈마 진단법에 대하여 [1] | 20397 |
| 626 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20343 |
| 625 | Langmuir probe tip 재료 | 20331 |
| 624 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1]  | 20238 |
| 623 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20236 |
| 622 | 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] | 20208 |
| 621 | 형광등과 플라즈마 | 20156 |
| 620 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20149 |
| 619 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20139 |
| 618 | 질문있습니다 교수님 [1] | 20080 |
| 617 | 플라즈마 matching | 20036 |
| 616 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 19931 |
| 615 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 19847 |
| 614 | 플라즈마 진동수와 전자온도 | 19830 |
| 613 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19770 |
| 612 | PM을 한번 하시죠 | 19695 |
| 611 | 상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다. | 19687 |
| » | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19684 |
| 609 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 | 19675 |
상기관련, 에쳐장비에서 HF/LF의 기본적으로 접지를 잡는방법이 궁금합니다.
또한 그라운드관련 그라운드 기능을 하는 하드웨어파트가 없어도, 큰 무리는 없는지 궁금합니다.
확인 부탁드립니다.
감사합니다.