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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성
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C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책
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DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다.
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새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다.
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진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도
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플라즈마 설비에 대한 질문
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788 |
RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문
[1] | 71 |
787 |
Non-maxwellian 전자 분포의 원인
[1] | 193 |
786 |
skin depth에 대한 이해
[1] | 155 |
785 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문
[1] | 103 |
784 |
반사파에 의한 micro arc 질문
[2] | 101 |
783 |
ICP에서의 Self bias 효과
[1] | 157 |
782 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
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781 |
sputtering 을 이용한 film depostion
[1] | 128 |
780 |
Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다.
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779 |
플라즈마 밀도와 라디칼
[1] | 234 |
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Microwave & RF Plasma
[1] | 127 |
777 |
플라즈마 식각 시 notching 현상 관련
[1] | 197 |
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ICP에서 전자의 가속
[1] | 149 |
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내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다.
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