질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92928 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [281] 77181
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20453
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57350
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68888
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92928
804 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. new 8
803 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] update 11
802 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 59
801 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 75
800 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 58
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 53
798 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 69
797 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 107
796 Druyvesteyn Distribution 38
795 플라즈마 식각 커스핑 식각량 54
794 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 112
793 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 31
792 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 48
791 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 125
790 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 124
789 플라즈마 설비에 대한 질문 102
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 112
787 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 250
786 skin depth에 대한 이해 [1] 220
785 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 147

Boards


XE Login