Ashing H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
2010.04.10 19:15
안녕하세여... 자료를 찾던중 도저히 모르겠어서 답변 부탁드립니다. 현재 H2 플라즈마로 표면 처리를 하고 있습니다. 그러나, 폴리머 계통이 잘 Ashing되지 않아, O2를 쓰려고 합니다. 몇몇 업체에서는 미량의 산소를 수소와 함께 쓰는 것으로 알고 있습니다. 그러나 산소와 수소가 섞이면 반응하는 것으로 알고 있어서 위험할 것 같아서 질문드립니다. 수소 플라즈마에 산소를 섞으면 얼마의 비율로 섞어야 하는지 궁금합니다. 정확한 수치가 없다면, 제가 찾아봐야할 관련자료라도 알려 주시면 고맙겠습니다. 감사합니다. 답변 꼭 부탁드립니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [281] | 77180 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20452 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57350 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68888 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92927 |
| 764 | 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] | 222 |
| 763 |
구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다.
[1]  | 227 |
| 762 | 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] | 229 |
| 761 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 231 |
| 760 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 243 |
| 759 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 243 |
| 758 | Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] | 244 |
| 757 | Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] | 250 |
| 756 | GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] | 263 |
| 755 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 269 |
| 754 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 279 |
| 753 | RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] | 282 |
| 752 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 286 |
| 751 | 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] | 299 |
| 750 | RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] | 311 |
| 749 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 326 |
| 748 | E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] | 330 |
| 747 | Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] | 331 |
| 746 |
RF sputter 증착 문제 질문드립니다.
[1] | 335 |
| 745 | 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] | 341 |