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2021 KAPRA & KPS/DPP 장비 플라즈마 데이터 기반 지능형 제어 시스템 개발 2018 ISSM Real-time Etch Control to Reduce First Wafer Effect in SF6/O2/Ar Plasma 2018 한국반도체디스플레이기술학회 Development of Second Positive System based N2 Collisional Radiative Model 2018 한국표면공학회 ELM 고열속 인가에 따른 텅스텐의 결정 성장 및 균열 발생 심화 관찰 2018 ICMAP Model Predictive Control of Electron Density for Ar/SF6 Etching Plasma
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ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? 1 2021-09-14 15:33 윤정훈 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? 1 2021-09-11 22:39 김규형 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? 1 2021-09-09 15:47 김석문 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. 1 2021-08-19 14:08 한규호 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. 1 2021-08-17 06:51 이현우 Untitled 2021-08-13 16:31 이현우 Untitled 2021-08-13 13:37 이현우 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. 1 2021-08-12 16:29 박준우 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 1 2021-08-10 15:58 김석문 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 1 2021-08-05 17:12 김석문
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