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2018	ISSM	Real-time Etch Control to Reduce First Wafer Effect in SF6/O2/Ar Plasma
2018	ISSM	Real-time Etch Control to Reduce First Wafer Effect in SF6/O2/Ar Plasma
2018	한국반도체디스플레이기술학회	Development of Second Positive System based N2 Collisional Radiative Model
2018	한국표면공학회	ELM 고열속 인가에 따른 텅스텐의 결정 성장 및 균열 발생 심화 관찰
2018	ICMAP	Model Predictive Control of Electron Density for Ar/SF6 Etching Plasma

Publications

Publications

2019	Scientific Reports	Quantitation of the ROS production in plasma and radiation treatments of biotargets
2019	반도체디스플레이기술학회지	할로겐 플라즈마에 의한 Ge2Sb2Te5 식각 데미지 연구
2019	반도체디스플레이기술학회지	플라즈마 정보인자를 활용한 SiO2 식각 깊이 가상 계측 모델의 특성 인자 역할 분석
2019	Journal of Periodontal & Implant Science	The bactericidal effect of an atmospheric-pressure plasma jet on Porphyromonas gingivalis biofilms on sandblasted and acid-etched titanium discs
2019	IAEA CRP report	Evaluation of tritium inventory in irradiated tungsten by atomic-scale modeling

Q & A

Q & A

Plasma etch관련 질문이 드립니다. ¹	2020-05-22 08:28	윤청호
RPS를 이용한 SIO2 에칭 ¹	2020-05-15 23:53	유재민
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 ¹	2020-05-06 19:33	박지원
질문있습니다 교수님 ¹	2020-05-06 15:46	한필섭
CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 ¹	2020-04-29 02:45	이현우
KM 모델의 해석에 관한 질문 ¹	2020-04-28 10:26	조현제
remote plasma 데미지 질문 ¹	2020-04-18 19:32	이정서
RF generator 관련 문의드립니다 ²	2020-04-11 09:43	김민우
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance ¹	2020-04-06 11:29	이윤재
안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. ¹	2020-03-18 16:17	이재성

Phone: +82-2-880-8971 Fax: +82-2-889-2688 Webmaster: swryus@snu.ac.kr

Plasma Application Laboratory, building 30, room 102, 599 Gwanangno, Gwanak-gu, Seoul, 151-744, Korea

Department of Energy System Engineering (Nuclear Engineering), Seoul National University

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