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2021 반도체디스플레이기술학회지 VHF-CCP 설비에서 Ar/SF6 플라즈마 분포가 Si 식각 균일도에 미치는 영향 분석 2021 Current Applied Physics Development of Model Predictive Control of Fluorine Density in SF6/O2/Ar Etch Plasma by Oxygen Flow Rate 2021 Journal of the Korean Physical Society Phenomenology-based Model Predictive Control of Electron Density in Ar/SF6 Capacitively Coupled Etch Plasma 2021 Atoms Population Kinetics Modeling of Low-Temperature Argon Plasma 2021 Materials Development of Virtual Metrology Using Plasma Information Variables to Predict Si Etch Profile Processed by SF6/O2/Ar Capacitively Coupled Plasma
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2021 AEC/APC Symposium Asia 2021 Development of Si Etch Profile Virtual Metrology using Plasma Information(PI-VM) in SF6/O2/Ar Capacit... 2021 KAPRA & KPS/DPP 장비 플라즈마 데이터 기반 지능형 제어 시스템 개발 2018 ISSM Real-time Etch Control to Reduce First Wafer Effect in SF6/O2/Ar Plasma 2018 한국반도체디스플레이기술학회 Development of Second Positive System based N2 Collisional Radiative Model 2018 한국표면공학회 ELM 고열속 인가에 따른 텅스텐의 결정 성장 및 균열 발생 심화 관찰
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Bias 관련 질문 드립니다. 2022-01-11 14:32 박준석 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. 2022-01-05 11:10 김용운 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 2022-01-03 21:59 배민수 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 2021-12-28 19:16 홍성완 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 1 2021-12-14 16:39 권형준 Plasma 식각 test 관련 문의 1 2021-12-13 16:57 김영준 RF 전압과 압력의 영향? 1 2021-12-06 14:03 김석문 Plasma Cleaning 관련 문의 1 2021-11-30 15:37 김강희 Uniformity 관련하여 문의드립니다. 1 2021-11-19 14:18 김강희 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. 1 2021-11-18 11:00 김영웅
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