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- Publications
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2022 Current Applied Physics Investigation of ion-induced etch damages on trench surface of Ge2Sb2Te5 in high density Ar/SF6 plasma 2022 Journal of the Korean Physical Society Plasma Information-based virtual metrology (PI-VM) and mass production process control 2022 Plasma Sources Science and Technology Investigation of ion collision effect on electrostatic sheath formation in weakly ionized and weakly collisional plasma 2022 Physics of Plasma 2022 Review of Data-Driven Plasma Science 2022 Journal of Alloys and Compounds Competitive roles of dislocations on blister formation in polycrystalline pure tungsten
- Awards
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2021 AEC/APC Symposium Asia 2021 Development of Si Etch Profile Virtual Metrology using Plasma Information(PI-VM) in SF6/O2/Ar Capacit... 2021 KAPRA & KPS/DPP 장비 플라즈마 데이터 기반 지능형 제어 시스템 개발 2018 ISSM Real-time Etch Control to Reduce First Wafer Effect in SF6/O2/Ar Plasma 2018 한국반도체디스플레이기술학회 Development of Second Positive System based N2 Collisional Radiative Model 2018 한국표면공학회 ELM 고열속 인가에 따른 텅스텐의 결정 성장 및 균열 발생 심화 관찰
- Q & A
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ICP lower power 와 RF bias 1 2023-01-18 19:04 안지훈 CCP RIE 플라즈마 밀도 1 2023-01-16 22:20 이지원 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 1 2023-01-16 16:15 이명규 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 1 2023-01-11 20:48 김지섭 기판표면 번개모양 불량발생 1 2023-01-04 14:42 황용운 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 1 2022-12-31 20:23 서재현 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. 1 2022-12-07 14:13 김원균 plasma modeling 관련 질문 1 2022-12-04 20:24 우병준 플라즈마 진단 OES 관련 질문 1 2022-11-27 01:07 정지우 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 2022-11-23 17:08 최철용
Phone: +82-2-880-8971 Fax: +82-2-889-2688 Webmaster: wlgnstlsqkf@snu.ac.kr
Plasma Application Laboratory, building 30, room 102, 1, Gwanak-ro, Gwanak-gu, Seoul, Republic of Korea
Department of Energy System Engineering (Nuclear Engineering), Seoul National University
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