Etch Dry Etching Uniformity 개선 방법

2016.03.02 17:46

돌맹 조회 수:4325

안녕하세요? nano imprint 및 etching을 이용하여 패턴 가공을 하는 직장인 입니다.

Al 에칭 시 전체적인 Uniformity가 잘나오지 않습니다. 항상 한쪽으로(같은 방향) 쏠리어 에칭이 됩니다.

여러 조건들 SRC,Bias 파워,유량 조절, 압력 조절 등 조건 변경하여 해보았으나 마찬가지 형태로 진행이 됩니다.

Etcher 장비는 최대 8inch 까지 가능한 장비이며 에칭 가스는 Cl2, BCl3 사용 중입니다.


uniformity 개선 관련하여 어떠한 방법이 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77123
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20417
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57327
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68865
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92887
321 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1430
320 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5422
319 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6073
318 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8643
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6111
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2526
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3994
314 Ar plasma power/time [1] 1448
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4073
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17597
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1394
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7308
309 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1970
308 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11531
307 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4244
306 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 846
305 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1923
304 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3067
» Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4325
302 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1231
쓰기
태그

Boards

XE Login