Matcher 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~
2019.08.06 11:00
matcher를 봤을 때 직렬은 tune 병렬은 load라 튠값으로는 리액턴스를 로드 값으로는 저항성분에 대해 알 수 있다고 알고 있는데요
가끔 로드랑 튠 값이 흔들리고 산포가 좋지 않을 때가 있다합니다. 이렇게 값들이 흔들리는 이유로는 전체적으로 뭐가 있을까요?
또 plasma를 켰을 떄 매쳐의 로드와 튠 값에 영향을 주는 이자들은 무엇들이 있을까요?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77312 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20507 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57416 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68959 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92991 |
510 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1444 |
509 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1445 |
508 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1446 |
507 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1446 |
506 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
![]() | 1447 |
505 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1454 |
504 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1455 |
503 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1457 |
502 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1457 |
501 | Ar plasma power/time [1] | 1460 |
500 | Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] | 1466 |
499 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1467 |
498 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1475 |
497 | 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] | 1478 |
496 | rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] | 1480 |
495 | RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. | 1488 |
494 | Impedence 위상관련 문의.. [1] | 1489 |
493 | 알고싶습니다 [1] | 1496 |
492 | charge effect에 대해 [2] | 1523 |
491 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1523 |
본 QA에서 'matcher' 혹은 '매처'로 찾아 보세요. 여러번 설명을 했으니 자료가 제법 쌓여 있습니다. 도움이 되길 바랍니다.
다만 matcher의 역할을 RF 전력을 플라즈마 생성에 최대한 많이 보내기 위한 장치이니 플라즈마와 장비가 만드는 리액터스 값을 상쇄시켜야 RF 파워를 제대로 공급합니다. 여기서 장비는 주로 플라즈마 생성에 필요한 전기장 (가열에너지)를 만드는 방식, 즉 ICP와 CCP에 따라서 다릅니다. 매처가 어떻게 다른지 확인하시면서, 자료를 읽어 보시면 작동 원리를 이해하기가 훨씬 수월할 것 같습니다.