안녕하세요. 장비회사에서 근무하는 양철훈 이라고 합니다.

궁금한 점이 있어 문의 드립니다.

 - DC sputter에서 스퍼터링 건에서 전원부 말고 Sheild나 housing는 전기적으로 ground가 좋은가요 floating 시키는 것이 좋은지요. DC에서는 상관없을 수도 있다는 생각이 들기도 합니다.

 - 동일 질문을 RF sputter의 경우에 하면 어떤 것이 더 좋은지요. RF에서는 charging 문제로 ground가 되어야만 할 것같다는 생각이 들기도 합니다.

어떤 것이 더 좋은지와 이 이유 답변 부탁드립니다.

감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 80290
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21498
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58303
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69904
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95004
624 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 911
623 RF 파워서플라이 매칭 문제 917
622 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 921
621 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 923
620 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 925
619 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 929
618 RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계] [1] 934
617 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 941
616 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [용사 코팅] [1] 947
615 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 948
614 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 948
613 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 961
612 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 965
611 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 976
610 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 978
609 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 994
608 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 999
607 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 1001
606 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 1004
605 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1006

Boards


XE Login