Ion/Electron Temperature 플라즈마내의 전자 속도

2009.10.16 04:52

정용현 조회 수:21934 추천:145

플라즈마 장비 내의 bias를 100W 정도 주었을 때, 전자의 속도를 알 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77204
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20464
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57360
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92945
206 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 910
205 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 907
204 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 900
203 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 886
202 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 885
201 문의 드립니다. [1] 882
200 Self bias 내용 질문입니다. [1] 880
199 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 866
198 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 863
197 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 861
196 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 858
195 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 856
194 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 850
193 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 849
192 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 845
191 RF 파워서플라이 매칭 문제 843
190 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 833
189 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 832
188 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 828
187 라디컬의 재결합 방지 [1] 822

Boards


XE Login