Ion/Electron Temperature remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다.
2011.12.28 18:13
안녕하세요. 최근에 원자층식각(Atomic Layer Etching) 또는 ALD시 remote plasma란 용어가 자주 나오는데요, 일반적으로 이야기 하는 Plasma 와 어떤 차이가 있는 건가요? 생성방법? 이온 밀도? 등등 차이점에 대해 설명좀 부탁드립니다. 항상 감사드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77310 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20506 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57415 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68958 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92990 |
90 | 플라즈마의 발생과 ICP | 22176 |
89 | 질문있습니다 교수님 [1] | 22245 |
88 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22281 |
» | remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] | 22352 |
86 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22567 |
85 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22587 |
84 | Peak RF Voltage의 의미 | 22647 |
83 | pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] | 22651 |
82 | [질문] Plasma density 측정 방법 [1] | 22721 |
81 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22825 |
80 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22870 |
79 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22960 |
78 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23128 |
77 | CCP/ICP , E/H mode | 23129 |
76 | No. of antenna coil turns for ICP | 23150 |
75 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23210 |
74 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23286 |
73 | DC glow discharge | 23289 |
72 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23352 |
71 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23446 |