Ion/Electron Temperature 플라즈마 발생 억제 문의
2012.03.19 14:12
안녕하십니까
플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법은 무엇인지 어쭙고자 글을 올리게 되었습니다.
고주파 유도가열(3MHz)을 이용하여 실리콘(Si)을 가열하여 아르곤 분위기에서 실리콘 결정성장을 시키고 있습니다.
(코일은 팬케이크 형태임.)결정 성장을 시킬때 가끔씩 코일에 플라즈마가 발생하며,이로인해 코일arcing이 가끔 발생하여 코일이
소손되는것 같습니다.
플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법이 없을지 문의 드립니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77216 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20468 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57362 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68901 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92947 |
| 526 | 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] | 1327 |
| 525 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1340 |
| 524 | I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 1345 |
| 523 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1]  | 1350 |
| 522 | Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] | 1366 |
| 521 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1369 |
| 520 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1371 |
| 519 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1374 |
| 518 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1377 |
| 517 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1392 |
| 516 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1400 |
| 515 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1404 |
| 514 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1410 |
| 513 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1] | 1412 |
| 512 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1412 |
| 511 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1417 |
| 510 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1428 |
| 509 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1433 |
| 508 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1433 |
| 507 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
| 1440 |