안녕하세요 저는 유니스트에 재학중인 대학원생 홍석모입니다.


제가지금 ICP CVD장비를 사용하고 있는데 플라즈마에 대한 배경지식이 없어서 혹시나 도움이 될까 글을 남겨 봅니다.


지금 저희가 쓰고 있는 장비의 스펙에 대해서 간단히 설명드리면

cylinder type

출력 주파수 13.56MHz 

주파수 안정도 ±0.005% 

RF 출력 임피던스 50 ohm nominal 

AC 입력Power Line 208/220/230 Vac/단상 50-60Hz 

정격RF Power Output YSR-06MF: 600W @ 50 ohm. 

RF Output Connector N Type 

DIMENSION 482W * 458D * 178H / 36Kg

그리고 작동 압력은 0.1 torr에서 0.01torr사이에서 작동 하고 있습니다.


제가 궁금한것은 power와 ionenergy사이의 관계를 알고 싶고, 시뮬레이션이 가능하다면 어떤 프로그램으로 할수 있는지 알려주시면 정말 감사하겠습니다.


감사합니다.


홍석모.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77207
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57360
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92945
386 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2913
385 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 1009
384 ICP 후 변색 질문 743
383 Plasma etcher particle 원인 [1] 3052
382 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2369
381 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 344
380 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4389
379 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1039
378 고진공 만드는방법. [1] 1020
377 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 430
376 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 699
375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1327
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 472
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 770
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 6006
371 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2744
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3462
369 활성이온 측정 방법 [1] 579
368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1473
367 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2268

Boards


XE Login