Others RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.

2017.11.09 21:13

도도보이즈 조회 수:3449

안녕하세요,

재료공학과 연구실에서 연구를 하고 있는 대학원생입니다.

항상 좋은 답변 해주셔서 많은 도움을 받고 있습니다.


제가 이번에 Arcing 관련 이슈를 공부하고 있는데,


1. DC plasma에서의 arcing과 RF plasma에서의 arcing사이에 어떤 차이가 있는지 궁금합니다.

그리고,

2. RF plasma에서 발생하는 arcing을 줄일 수 있는 방법에는 어떠한 것들이 있는지도 궁금합니다.


감사합니다.



이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76997
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20342
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57264
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68808
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92808
401 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2464
400 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2459
399 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2440
398 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2409
397 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2386
396 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2382
395 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2370
394 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2370
393 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2369
392 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2367
391 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2363
390 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2352
389 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2351
388 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2350
387 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2348
386 Wafer particle 성분 분석 [1] 2341
385 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2339
384 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2335
383 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2308
382 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2304
쓰기
태그

Boards

XE Login