Others PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요
2017.12.09 21:10
PDP에 관해 공부를 하고 있는 학생입니다.
학교에서 이번에 PDP소자를 조건을 달리해서 만들어보고 특성평가를 진행했는데 다른조건들의 결과들은 어느정도 경향을 나타냈는데 방전갭을 달리하여 측정한 실험결과는 딱히 경향이 나타나지 않은 것 같아 잘 이해가 안되서 질문드립니다.
제가 시험했던 조건은 가스는 질소를 사용했고 압력은 50torr와 100torr 주었고 주파수는 10kHZ와 20kHz로 주었고 방전갭은 100um, 300um, 500um으로 차이를 주었습니다.
방전개시전압은 방전갭을 크게 할 수록 높아지는 것을 볼 수 있었으나 휘도를 측정했을 때 경향이 잘 나타나지 않아 방전갭에 따른 휘도가 어떻게 나왔어야 했나 궁금합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77207 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20465 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57361 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68900 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92946 |
746 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24426 |
745 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24387 |
744 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24214 |
743 | self Bias voltage | 24135 |
742 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24127 |
741 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 24004 |
740 | 플라즈마 쉬스 | 23990 |
739 | Arcing | 23878 |
738 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23790 |
737 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23480 |
736 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23432 |
735 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23350 |
734 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23282 |
733 | DC glow discharge | 23282 |
732 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23194 |
731 | No. of antenna coil turns for ICP | 23133 |
730 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23123 |
729 | CCP/ICP , E/H mode | 23112 |
728 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22957 |
727 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22862 |