CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련

2020.01.02 18:46

베컴 조회 수:19792

안녕하십니까?


이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.


그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,

그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.


에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.

(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)


확인 및 답변 부탁드립니다.

새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.

감사합니다.





번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77070
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20386
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57294
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68840
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92843
161 ICP 후 변색 질문 738
160 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 737
159 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 735
158 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 733
157 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 723
156 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 719
155 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 713
154 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 710
153 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 706
152 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 695
151 Polymer Temp Etch [1] 693
150 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 693
149 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 691
148 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 681
147 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 679
146 plasma 공정 중 색변화 [1] 663
145 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 661
144 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 659
143 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 653
142 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 646

Boards


XE Login