Matcher matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다.
2020.01.11 04:30
안녕하세요 반도체 회사에 다니고있는 구성원입니다.
에칭장비를 담당하는데, 챔버 pm후 RF가 세팅값까지 안올라오는 경우
오토매칭을 사용하지 않고, 매쳐의 LOAD,TUNE값을 조절해서 RF POWER를 원하는 값으로 맞추는데요
원리를 모르고 하다보니, 시간이 오래걸리고, 조절하다보면 FORWARD값은 맞춰지지만 REFLECT값도 함께 올라가서
애를먹는 경우가 있습니다
매쳐에서 LOAD, TUNE의 역할은 무엇인가요??? 또한 원하는 FORWARD/REFLECT값을 얻기위해 LOAD/TUNE 조절을 쉽게 할 수 있는 방법이 있을까요?
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77138 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20424 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57334 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68872 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92896 |
542 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13209 |
541 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13074 |
540 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12815 |
539 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12778 |
538 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12557 |
537 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12368 |
536 | Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] | 11598 |
535 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 11536 |
534 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11500 |
533 | DC bias (Self bias) [3] | 11333 |
532 | RGA에 대해서 | 10552 |
» | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10525 |
530 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10394 |
529 | 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] | 10392 |
528 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10329 |
527 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 10036 |
526 | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9900 |
525 | 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. | 9845 |
524 | 수중 방전 관련 질문입니다. [1] | 9680 |
523 | 대기압 플라즈마에 대해서 | 9647 |