ICP ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!!
2021.03.01 21:54
안녕하세요 제가 ICP-RIE로 SIO2를 식각하는 과정에서 나머지 변수는 모두 똑같고 (CF4+He gas) RF power를 올려서 식각했는데 측정결과 RF power를 올렸음에도 식각률이감소했습니다. 왜 이러한 결과가 나왔는지 그 이유에 대해 혹시 설명해주실수 있을까요? ㅠㅠ
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77078 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20392 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57301 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68846 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92853 |
| 301 | MFP에 대해서.. [1] | 7833 |
| 300 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8064 |
| 299 | 고온 플라즈마 관련 | 8090 |
| 298 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8128 |
| 297 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8153 |
| 296 | 핵융합에 대하여 | 8564 |
| 295 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8582 |
| 294 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8586 |
| 293 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1]  | 8625 |
| 292 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8629 |
| 291 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8632 |
| 290 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8747 |
| 289 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8757 |
| 288 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8764 |
| 287 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8936 |
| 286 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 9014 |
| 285 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9048 |
| 284 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9264 |
| 283 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9269 |
| 282 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9537 |