플라즈마 관련 기기 ETCH 장비군에 일하는 사원입니다

 

이번에 해당 직군으로 부서이동하여 플라즈마에 관해 잘 몰랐는데 여기서 많은 정보 얻고 있습니다

 

정말 감사드립니다

다름이 아니고 기본 용어인 VDC, VPP의 개념이 잘 이해가 안됩니다

 

둘 다 RF에 의해 발생하는 파장(?)으로 이해되고 있는데

해당 용어에 대한 설명 좀 부탁드립니다

 

해당 용어로 질문방에 검색해 가면서 이해하려 해도 기초지식이 부족한지 잘 이해가 안됩니다

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77307
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20505
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68953
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92989
609 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1541
608 전자 온도 구하기 [1] file 1192
607 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 328
606 CVD 공정에서의 self bias [1] 3229
605 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3350
604 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1185
603 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1878
602 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1475
601 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1130
600 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1021
599 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1828
598 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2942
597 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1954
596 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3499
595 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 230
594 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2404
593 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1380
592 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2456
591 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3286

Boards


XE Login