CCP PECVD와 RIE의 경계에 대해
2021.06.21 15:35
안녕하세요. PECVD 방식을 사용하는 반도체 장비 회사에 다니는 엔지니어입니다.
항상 많이 배우고 있습니다 .감사합니다.
이번에 여쭙고 싶은것은 PECVD가 어느 순간 RIE가 되는지 입니다.
말씀드렸다시피 저희 회사는 PECVD를 쓰고있고, 이는 양 전극의 크기가 동일하며 두 전극의 간극(Gap)이 작아서 Wall의 영향을 받지 않기 때문에 DC bias는 영향이 거의 없고 따라서 Ion bombardment는 일어나지 않고 라디컬에 의한 화학 반응이 주를 이루게 된다고 알고 있습니다.
그렇다는 것은 두 전극의 크기가 동일하더라도 Gap을 늘리면 DC bias 효과를 낼 수 있다는 말인 것 같은데,
Gap을 어느정도로 확보해야 PECVD가 아닌 RIE로 부를 수 있는 걸까요?
현재는 10mm이하로 Gap을 사용하고 있습니다.
혹시 안된다면 이유는 무엇이고 전극의 크기가 같은 CCP 구조에서 Ion Bombardment를 일으킬 수 있는 방법이 있는지 궁금합니다.
감사합니다!!!
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77240 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20468 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57374 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68904 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92951 |
526 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9560 |
525 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9539 |
524 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9278 |
523 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9271 |
522 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9068 |
521 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 9030 |
520 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8943 |
519 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8818 |
518 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8795 |
517 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8776 |
516 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8680 |
515 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8638 |
514 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1] ![]() | 8638 |
513 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8587 |
512 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8585 |
511 | 핵융합에 대하여 | 8565 |
510 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8160 |
509 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8133 |
508 | 고온 플라즈마 관련 | 8091 |
507 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8081 |